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shinkuu真空鍍膜設備的原理及特點

shinkuu真空鍍膜設備的原理及特點

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本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。

檢測原理

主要分成蒸發(fā)跟濺射兩種,需要鍍膜的被稱為基片跟基材,鍍的材料(金屬材料以金,銀,銅,鋅,鋁等,其中用的最多的是鋁)被稱為靶材。基片與靶材同樣在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或者原子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基材表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-成狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材。并使表面組分以原子團或者離子形式被濺射出來,并且最終濺射在基材表面,經過成膜過程,最終形成薄膜。

原理示意圖

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金屬鍍膜設備MSP-1S

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本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。


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